Conçu pour les restaurations postérieures, ce matériau possède des propriétés optiques uniques et son opacité améliorée permet une obturation facile en un seul incrément jusqu’à 5 mm, sans compromettre l’esthétisme de la restauration.
La poursuite du développement des nanotechnologies 3M nous permet de gérer l’opacité et la profondeur de photopolymérisation de manière plus intelligente. Avec notre technologie unique de gestion intelligente des rapports de contraste, nous avons amélioré l’opacité sans réduire la profondeur de photopolymérisation.
Photopolymérisé, le matériau de restauration 3M™ Filtek™ One présente une opacité plus élevée que le matériau de restauration postérieure 3M™ Filtek™ Bulk Fill, offrant ainsi un esthétisme amélioré.
Le monomère d’AFM (Addition-fragmentation monomer, monomère d’addition-fragmentation) réduit le stress de polymérisation.
Offre une résistance à l’usure exceptionnelle et une excellente pérennité du poli.
Grossissement x 5000 du nanocluster
Le monomère d’AUDMA (aromatic urethane dimethacrylate, diméthacrylate d’uréthane aromatique) contribue à réduire le taux de contraction et le stress de polymérisation.
Provides superior wear resistance and excellent polish retention.
Grossissement x 50000 du nanocluster
Seringue réassort : 1 seringue de 4 g, un guide technique, un mode d’emploi.
Capsules réassort : 20 capsules de 0,2 g, un guide technique, un mode d’emploi.